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國產(chǎn)X熒光光譜儀使用操作的技術(shù)指導(dǎo)分享闡述

更新時(shí)間:2017-09-28      點(diǎn)擊次數(shù):2170
     國產(chǎn)X熒光光譜儀技術(shù)已成功應(yīng)用于環(huán)境、食物鏈、動(dòng)植物、農(nóng)產(chǎn)品、人體組織細(xì)胞及器官、生物醫(yī)學(xué)材料、組織細(xì)胞、醫(yī)學(xué)試劑、動(dòng)植物器官、代謝產(chǎn)物中的無機(jī)元素測定。
    國產(chǎn)X熒光光譜儀可對固體、粉末、液體、懸浮物、過濾物、大氣飄塵、薄膜樣品等進(jìn)行定性、定量分析,元素范圍13Al-92U,含量范圍ppb至100%,檢出限到2pg。
    國產(chǎn)X熒光光譜儀是一種波長較短的電磁輻射,通常是指能t范圍在0.1^-100keV的光子。國產(chǎn)X熒光光譜儀與物質(zhì)的相互作用主要有熒光、吸收和散射三種。X射線熒光光譜儀是由物質(zhì)中的組成元素產(chǎn)生的特征輻射,通過側(cè)里和分析樣品產(chǎn)生的x射線熒光,即可獲知樣品中的元家組成,得到物質(zhì)成分的定性和定量信息。
    特征國產(chǎn)X熒光光譜儀的產(chǎn)生與特性當(dāng)用高能電子束照射樣品時(shí),人射高能電子被樣品中的電子減速,這種帶電拉子的負(fù)的加速度會產(chǎn)生寬帶的連續(xù)X射線譜,簡稱為連續(xù)潛或韌致輻射。另一方面,化學(xué)元素受到高能光子或粒子的照射,如內(nèi)層電子被激發(fā),則當(dāng)外層電子躍遷時(shí),就會放射出特征X射線。特征X射線是一種分離的不連續(xù)譜。如果激發(fā)光源為x射線,則受激產(chǎn)生的x射線稱為二次X射線或X射線熒光。特征x射線顯示了特征x射線光譜儀產(chǎn)生的過程。
    當(dāng)人射x射線撞擊原子中的電子時(shí),如光子能量大于原子中的電子束縛能,電子就會被擊出。這一相互作用過程被稱為光電效應(yīng),被打出的電子稱為光電子。通過研究光電子或光電效應(yīng)可以獲得關(guān)于原子結(jié)構(gòu)和成鍵狀態(tài)的信息。在這一過程中,如人射光束的能量大得足以擊出外射原子中的內(nèi)層電子,就會在原子的內(nèi)殼層產(chǎn)生空穴,這時(shí)的原子處于非穩(wěn)態(tài),層電子會從高能軌道躍遷到低能軌道來充填軌道空穴線的形式釋放,原子恢復(fù)到穩(wěn)態(tài)。
    如今,國產(chǎn)X熒光光譜儀技術(shù)已成功應(yīng)用于環(huán)境、食物鏈、動(dòng)植物、農(nóng)產(chǎn)品、人體組織細(xì)胞及器官、生物醫(yī)學(xué)材料、組織細(xì)胞、醫(yī)學(xué)試劑、動(dòng)植物器官、代謝產(chǎn)物中的無機(jī)元素測定。目前XRF分析專家們已普遍走出了單純進(jìn)行分析側(cè)試研究的范疇,廣泛開展了分析數(shù)據(jù)與所包含信息的相關(guān)性研究,試圖揭示出分析結(jié)果與疾病及環(huán)境變化等的內(nèi)在,為疾病診斷與預(yù)防、環(huán)境預(yù)測與治理等提供科學(xué)依據(jù)。核技術(shù)在醫(yī)學(xué)研究與應(yīng)用中占有重要地位,當(dāng)應(yīng)用于與人類生命直接相關(guān)的醫(yī)療領(lǐng)域時(shí),一方面它可用于治療和診斷,另一方面也可能損傷健康的細(xì)胞,因此放射劑量學(xué)研究在上也收到了廣泛重視。核技術(shù)應(yīng)用與核材料安全由于與人類生存環(huán)境密切相關(guān),目前更是引人關(guān)注。
    在人們的日常生活中,許多材料都含有濃度不等的重金屬元素,例如鉛、鉻、汞等。這些元家對人體有毒有害,其含量如超出允許范圍,會極大損害人的健康,包括人的行為能力和智力水平。因此,歐盟針對塑料產(chǎn)品等的新標(biāo)準(zhǔn)已經(jīng)生效,對有毒有害元素含量有了更為嚴(yán)格的限制。由于我國每年有大徽塑材出口。這一標(biāo)準(zhǔn)的實(shí)施對我國原材料生產(chǎn)和出口有著極大的影響。而XRF光譜儀技術(shù)則特別適合于用來監(jiān)控相關(guān)材料中的有毒有害元家的含量,該技術(shù)已廣泛應(yīng)用于實(shí)際生產(chǎn)質(zhì)zui控制。此外.XRF光譜儀在無損檢測方面,具有其他分析技術(shù)*的優(yōu)點(diǎn),利用國產(chǎn)X熒光光譜儀掃描方法探測材料表層下面的缺陷是X射線無損檢側(cè)技術(shù)的一個(gè)重要應(yīng)用領(lǐng)域。
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